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蒸镀掩模、蒸镀装置、薄膜形成方法.pdf

摘要
申请专利号:

CN201110036180.5

申请日:

2011.02.11

公开号:

太阳城集团CN102162082B

公开日:

2015.01.28

当前法律状态:

授权

有效性:

有权

法律详情: 授权|||实质审查的生效IPC(主分类):C23C 14/04申请日:20110211|||公开
IPC分类号: C23C14/04; C23C14/24; H01L51/56 主分类号: C23C14/04
申请人: 株式会社爱发科
发明人: 深尾万里; 羽根功二; 伊藤正博
地址: 日本神奈川县
优先权: 2010.02.12 JP 2010-029353
专利代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 朱美红;杨楷
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法律状态
申请(专利)号:

CN201110036180.5

授权太阳城集团号:

太阳城集团102162082B||||||

法律状态太阳城集团日:

太阳城集团2015.01.28|||2013.01.16|||2011.08.24

法律状态类型:

授权|||实质审查的生效|||公开

摘要

提供一种能够对应于大型基板的蒸镀掩模、蒸镀装置、蒸镀方法。在蒸镀掩模(10)上形成开口部(11),以使其中心间距离为基板(50)的像素(51a1、51a2)的中心间距离的2倍。将该蒸镀掩模配置在基板上,在进行对位以使开口部和遮蔽部(19)交替地配置在各像素(51a1、51a2、51ax)的上方的状态下,将与开口部面对的像素(51a1)成膜,接着使蒸镀掩模移动像素(51a1、51a2)的中心间距离,使开口部位于在移动前与遮蔽部面对的未成膜的像素(51a2、51ax)的上方,在此状态下在未成膜的像素(51a2、51ax)上成膜薄膜。由于开口部的间隔比以往宽,所以能够使在开口部形成时蒸镀掩模损坏的可能性比以往减小,大型的蒸镀掩模的制造变得容易。

权利要求书

1. 一种蒸镀掩模,是构成为使得蒸汽能够到达基板上的成膜相同材料的多个像素的蒸镀掩模,其特征在于,在一部分的上述像素上具有使上述蒸汽通过的开口部;在上述蒸镀掩模的一方向上相邻的上述开口部的中心间距离是被用相同材料成膜、并且在上述一方向上相邻的上述像素的中心间距离的多倍。2. 如权利要求1所述的蒸镀掩模,其特征在于,上述一方向是被用相同材料成膜、并且相邻的上述像素的间隔较短的方向。3. 如权利要求1或2所述的蒸镀掩模,其特征在于,具有以与在上述一方向上相邻的上述像素的中心间距离相同的中心间距离配置的多个掩模标记。4. 一种蒸镀装置,其特征在于,具有:权利要求1或2所述的蒸镀掩模;真空槽,在内部配置上述蒸镀掩模;真空排气装置,将上述真空槽内真空排气;蒸镀源,对上述真空槽内释放蒸镀材料的蒸汽;对位装置,将上述蒸镀掩模与上述基板对位。5. 如权利要求4所述的蒸镀装置,其特征在于,上述对位装置具有:检测装置,检测上述蒸镀掩模具有的掩模标记、和上述基板具有的基板标记;掩模移动装置,使上述蒸镀掩模沿平行于上述蒸镀掩模表面的方向移动、并且绕垂直于上述蒸镀掩模表面的旋转轴线旋转;控制装置,基于上述检测装置的检测结果,决定上述掩模移动装置进行的上述蒸镀掩模的移动的方向和移动的量、和上述蒸镀掩模的旋转的方向和旋转的量。6. 一种蒸镀装置,其特征在于,具有:权利要求3所述的蒸镀掩模;真空槽,在内部配置上述蒸镀掩模;真空排气装置,将上述真空槽内真空排气;蒸镀源,对上述真空槽内释放蒸镀材料的蒸汽;对位装置,将上述蒸镀掩模与上述基板对位。7. 如权利要求6所述的蒸镀装置,其特征在于,上述对位装置具有:检测装置,检测上述蒸镀掩模具有的上述掩模标记、和上述基板具有的基板标记;掩模移动装置,使上述蒸镀掩模沿平行于上述蒸镀掩模表面的方向移动、并且绕垂直于上述蒸镀掩模表面的旋转轴线旋转;控制装置,基于上述检测装置的检测结果,决定上述掩模移动装置进行的上述蒸镀掩模的移动的方向和移动的量、和上述蒸镀掩模的旋转的方向和旋转的量。8. 一种薄膜形成方法,是在真空排气后的真空槽内配置具有由相同材料成膜的多个像素的基板、蒸镀源、和具有多个开口部的蒸镀掩模、在上述基板上进行成膜的薄膜形成方法,其特征在于,上述像素以矩阵状配置;上述蒸镀掩模的上述开口部的行间的中心距离是上述像素的行间的中心距离的多倍;具有:在奇数行上的上述像素上重叠上述开口部而成膜的步骤;使上述蒸镀掩模和上述基板的某个沿列方向相对移动上述像素的中心距离的倍数的步骤;在偶数行上的上述像素上重叠上述开口部而成膜的步骤。9. 一种薄膜形成方法,是在真空排气后的真空槽内配置具有位置相互离开的多个像素的基板、从蒸镀源向上述真空槽内释放蒸镀材料的蒸汽、在应形成薄膜的上述像素上形成薄膜的薄膜形成方法,其特征在于,各上述像素的中心配置在相互平行的多个基板基准线的某个基板基准线上,使上述基板基准线上的上述像素的中心间距离相等;使在一方向上相邻的上述开口部的中心间距离是由相同材料成膜、并且在上述一方向上相邻的上述像素的中心间距离的2倍的权利要求1或2所述的蒸镀掩模与上述基板面对,成为在与各上述像素重叠的位置上对位配置上述基板和上述蒸镀掩模、以使上述开口部和遮蔽上述蒸汽的遮蔽部在沿着上述基板基准线的方向上交替地配置的第一状态;一边维持上述第一状态,一边使上述蒸汽到达在面对的位置处配置有上述开口部的上述像素表面,形成上述薄膜;在使上述蒸汽的到达停止后,使上述蒸镀掩模向沿着上述基板基准线的移动方向移动上述中心间距离,成为上述开口部位于在上述第一状态下在面对的位置上配置有上述遮蔽部的上述像素上的第二状态;一边维持上述第二状态,一边使上述蒸汽到达上述成膜对象物,形成上述薄膜。10. 如权利要求9所述的薄膜形成方法,其特征在于,在上述蒸镀掩模内配置上述开口,以使其在上述第一状态下在沿着上述基板基准线的应形成上述薄膜的上述像素的列的上述移动方向的最末尾配置有与上述遮蔽部面对的上述像素的情况下、与从上述像素靠后方上述中心间距离的沿着上述基板基准线的区域外位置面对;上述最末尾的上述像素在上述第二状态下与上述区域外位置的上述开口面对。

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蒸镀掩模 装置 薄膜 形成 方法
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