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将原子层沉积涂层涂覆到多孔非陶瓷基底上的方法.pdf

摘要
申请专利号:

CN201080042180.X

申请日:

2010.09.15

公开号:

CN102575346B

公开日:

2015.01.28

当前法律状态:

授权

有效性:

有权

法律详情: 授权|||实质审查的生效IPC(主分类):C23C 16/455申请日:20100915|||公开
IPC分类号: C23C16/455; C23C16/00; H01L21/205; C23C16/54; C23C16/30; C23C16/06 主分类号: C23C16/455
申请人: 3M创新有限公司
发明人: 比尔·H·道奇
地址: 美国明尼苏达州
优先权: 2009.09.22 US 61/244,713; 2009.09.22 US 61/244,696
专利代理机构: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 张爽;樊卫民
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法律状态
申请(专利)号:

太阳城集团CN201080042180.X

授权太阳城集团号:

太阳城集团102575346B||||||

法律状态太阳城集团日:

太阳城集团2015.01.28|||2012.09.12|||2012.07.11

法律状态类型:

授权|||实质审查的生效|||公开

摘要

本发明公开了一种将保角涂层沉积在多孔非陶瓷基底上的方法,所述方法需要反应性气体流动经过所述基底从而在其后留下保角涂层。所述方法可用于在所述基底的内孔上留下亲水表面,即使当所述基底是天然疏水性的,例如烯属的材料。所述方法可用于卷对卷法方法中,或用于批量方法中。在后一种情况的一些方便的实施例中,批量反应器和适形涂覆的基底或多个基底可一起成为最终产品的组件,所述组件例如分别为过滤器主体和过滤器元件。

权利要求书

1.一种用于在多孔非陶瓷基底上沉积保角涂层的方法,其包括以
下步骤:
提供具有入口和出口的反应器;
将至少一个多孔非陶瓷基底的至少一部分定位为使得所述多孔非
陶瓷基底将所述入口与所述出口分离;
执行至少一次如下反复,顺序地将第一和第二反应性气体在所述
入口引入使得所述第一和第二反应性气体流动穿过所述多孔非陶瓷基
底到达所述出口,从而在所述多孔非陶瓷基底的内表面上执行两个或
更多个自限制反应的序列,以在所述内表面的至少一部分上形成保角
涂层。
2.根据权利要求1所述的方法,其中至少8次反复之后完成所述
执行步骤。
3.根据权利要求2所述的方法,其中至少20次反复之后完成所
述执行步骤。
4.根据权利要求1所述的方法,其中重复所述执行步骤直至所述
内表面的表面能量大于72达因/厘米。
5.根据权利要求4所述的方法,其中最靠近所述出口的所述多孔
非陶瓷基底的外表面的表面能量小于72达因/厘米。
6.根据权利要求1所述的方法,其中所述多孔非陶瓷基底是多孔
聚合物基底,并且其中所述引入步骤在低于所述多孔聚合物基底的熔
融温度的温度下进行。
7.根据权利要求1所述的方法,该方法还包括将至少第二多孔非
陶瓷基底的至少一部分定位为使得所述第二多孔非陶瓷基底也将所述
入口与所述出口分离。
8.根据权利要求1所述的方法,其中所述多孔非陶瓷基底采取无
限长的幅材的形式,并且所述定位手段允许卷对卷法。
9.根据权利要求8所述的方法,其中所述卷对卷法是一种分步重
复方法。
10.根据权利要求8所述的方法,其中所述卷对卷法是一种连续
运动方法。
11.根据权利要求1所述的方法,其中所述反应器采取过滤器主
体的形式。
12.根据权利要求10所述的方法,其中所述第一或第二反应性气
体的至少一种包括非反应性载气成分。
13.根据权利要求1所述的方法,其中所述多孔非陶瓷基底是多
孔聚合物基底。
14.根据权利要求13所述的方法,其中所述多孔聚合物基底是
TIPS基底。
15.根据权利要求13所述的方法,其中所述多孔聚合物基底是非
织造基底。
16.根据权利要求1所述的方法,其中所述保角涂层包括金属氧
化物、金属氮化物、金属硫化物或它们的组合。
17.根据权利要求16所述的方法,其中所述金属选自:硅、钛、
铝、锆和钇。
18.根据权利要求17所述的方法,其中所述金属选自:硅、钛和
铝。
19.根据权利要求18所述的方法,其中所述金属是铝。
20.根据权利要求16所述的方法,其中所述保角涂层包括氧化铝。
21.根据权利要求1所述的方法,其中在引入所述第一和第二反
应性气体的过程中的温度是约300℃或更低。
22.根据权利要求21所述的方法,其中在引入所述第一和第二反
应性气体的过程中的温度是约60℃或更低。
23.根据权利要求1所述的方法,该方法还包括将化学部分接枝
到所述保角涂层。
24.根据权利要求1所述的方法,其中保角涂层形成在所述多孔
非陶瓷基底的所有内表面上。
25.根据权利要求1所述的方法,其中所述保角涂层用于减小所
述多孔非陶瓷基底的孔隙率以获得期望的孔隙率,其通过控制执行的
反复的次数来实现。

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原子 沉积 涂层 涂覆到 多孔 陶瓷 基底 方法
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