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波像差测量装置的误差校准方法.pdf

摘要
申请专利号:

太阳城集团CN201410149109.1

申请日:

2014.04.15

公开号:

CN105022232A

公开日:

2015.11.04

当前法律状态:

授权

有效性:

有权

法律详情: 授权|||著录事项变更 IPC(主分类):G03F 7/20变更事项:申请人变更前:上海微电子装备有限公司变更后:上海微电子装备(集团)股份有限公司变更事项:地址变更前:201203 上海市浦东新区张东路1525号变更后:201203 上海市浦东新区张东路1525号|||实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20140415|||公开
IPC分类号: G03F7/20; G01M11/02 主分类号: G03F7/20
申请人: 上海微电子装备有限公司
发明人: 葛亮; 马明英
地址: 201203上海市浦东新区张东路1525号
优先权:
专利代理机构: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 代理人: 屈蘅; 李时云
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法律状态
申请(专利)号:

CN201410149109.1

授权太阳城集团号:

|||||||||

法律状态太阳城集团日:

太阳城集团2017.12.29|||2017.08.11|||2015.12.02|||2015.11.04

法律状态类型:

太阳城集团授权|||著录事项变更|||实质审查的生效|||公开

摘要

本发明提供了一种波像差测量装置的误差校准方法,包括以下步骤:步骤一:通过掩模台的掩模板上的物面测量标记和工件台的基准板上的若干个像面测量标记的相对运动进行波像差测量,然后通过测量的结果计算所述基准板的倾斜情况;步骤二:通过测量的结果计算所述基准板的旋转角度;步骤三:根据所述基准板的倾斜情况和旋转角度对所述基准板进行调整补偿。本发明摒弃了使用掩模对准、硅片对准和FLS来进行物面和像面波像差标记对准的方法,而是使用波像差测量结果计算波像差标记的对准精度,并进行调整;通过测量物面和像面运动台运动方向和标记方向之间是否存在夹角,并进行调整。

权利要求书

权利要求书
1.  一种波像差测量装置的误差校准方法,包括以下步骤: 
步骤一:通过掩模台的掩模板上的物面测量标记和工件台的基准板上的若干个像面测量标记的相对运动进行波像差测量,然后通过测量的结果计算所述基准板的倾斜情况; 
步骤二:通过测量的结果计算所述基准板的旋转角度; 
步骤三:根据所述基准板的倾斜情况和旋转角度对所述基准板进行调整补偿。 

2.  如权利要求1所述的波像差测量装置的误差校准方法,其特征在于:还包括以下步骤: 
步骤四:通过一个物面测量标记和一个像面测量标记的相对运动获取位相图,然后通过位相图计算掩模台的运动方向与像面测量标记的夹角或者工件台的运动方向与物面测量标记的夹角; 
步骤五:根据所述夹角对掩模台位置或工件台位置进行调整补偿。 

3.  如权利要求1所述的波像差测量装置的误差校准方法,其特征在于:在所述步骤一中包括如下步骤: 
S101:将掩模板上的物面测量标记移动至物镜的视场中心点,将基准板上的像面测量标记的区域中心移动到与物面测量标记对应的名义位置; 
S102:选择基准板上的若干所述像面测量标记,将所述物面测量标记分别与每个像面测量标记发生相对运动,传感器进行图像采集和波像差测量,得 到这若干个像面测量标记对应的泽尔尼克像差系数; 
S103:根据所述泽尔尼克像差系数计算若干所述像面测量标记对应的离焦位置,再通过所述离焦位置计算出所述基准板的倾斜情况Tx、Ty。 

4.  如权利要求3所述的波像差测量装置的误差校准方法,其特征在于:所述像面测量标记的数量为至少4个。 

5.  如权利要求4所述的波像差测量装置的误差校准方法,其特征在于:所述像面测量标记对应的离焦位置dF根据泽尔尼克像差系数Z4通过以下公式获得: 



其中,n为中间值,dF为离焦量,NA为物镜的数值孔径,λ为波长。 

6.  如权利要求3所述的波像差测量装置的误差校准方法,其特征在于:所述基准板的倾斜情况Tx、Ty以及离焦量dF之间的关系符合以下的公式: 
dF=Tx·x+Ty·y+c 
其中,x、y是所述像面测量标记的名义位置,dF为离焦量,c为常数,进而根据该公式和测量结果计算得到所述基准板的倾斜情况Tx、Ty。 

7.  如权利要求6所述的波像差测量装置的误差校准方法,其特征在于:在计 算所述基准板的倾斜情况Tx、Ty时,选择若干所述像面测量标记中至少三个的测量结果,应用到以下的公式中: 

其中,(x1,y1)、(x2,y2)和(x3,y3)是所述像面测量标记的名义位置,inv为求矩阵的逆,从而计算得到所述基准板的倾斜情况Tx、Ty。 

8.  如权利要求1所述的波像差测量装置的误差校准方法,其特征在于:所述步骤二包括如下步骤: 
S201:根据所述波像差测量,获得像面测量标记对应的泽尔尼克像差系数,可以计算出所述若干个像面测量标记的实际位置X、Y; 
S202:根据上述实际位置计算所述基准板的旋转角度Rz。 

9.  如权利要求8所述的波像差测量装置的误差校准方法,其特征在于:在所述步骤S201中,所述波像差测量标记的数量为至少4个,选择所述像面测量标记中两个测量结果,利用这两个测量结果中的Z2、Z3,应用到以下公式中,获得所述像面测量标记对应的实际位置(X1,Y1)、(X2,Y2): 


其中,NA为物镜的数值孔径。 

10.  如权利要求9所述的波像差测量装置的误差校准方法,其特征在于:将所 述像面测量标记对应的实际位置应用到以下公式中,计算所述基准板的旋转角度Rz: 


11.  如权利要求2所述的波像差测量装置的误差校准方法,其特征在于:所述步骤四包括如下步骤: 
S401:使一个所述物面测量标记与一个所述像面测量标记之间发生相对运动,传感器采集位相图,即位相随标记的运动距离变化而变化的曲线图; 
S402:根据该位相图计算位相差,再通过所述位相差计算出掩模台的运动方向与像面测量标记方向的夹角,或工件台的运动方向与物面测量标记方向的夹角。 

12.  如权利要求10所述的波像差测量装置的误差校准方法,其特征在于:在所述步骤S401中,所述像面测量标记位置不变,所述物面测量标记沿第一方向做直线移动以扫描所述像面标记,选定所述像面标记第二方向上的两个区域,所述第一方向垂直于第二方向,移动所述物面测量标记的同时,先对所述像面标记的第一个区域沿第一方向扫描若干个周期,然后所述物面标记切换到所述像面标记的第二个区域,在移动所述物面测量标记的同时沿第一方向扫描若干个周期,从而采集到两个区域的位相图。 

13.  如权利要求12所述的波像差测量装置的误差校准方法,其特征在于:利用采集到的位相图计算得到位相差,计算得到所述掩模台的运动方向与像面测量标记方向的夹角,或工件台的运动方向与物面测量标记方向的夹角。 

14.  如权利要求13所述的波像差测量装置的误差校准方法,其特征在于:所述掩模台的运动方向与像面测量标记方向的夹角,或工件台的运动方向与物面测量标记方向的夹角通过以下公式得到: 

其中,p为运动光栅周期,d为运动光栅的切换距离,Δθ为位相差。 

15.  如权利要求12所述的波像差测量装置的误差校准方法,其特征在于:当测量Y方向的旋转时,所述光栅的线条沿Y方向设置,X方向与所述第一方向同向。 

16.  如权利要求12所述的波像差测量装置的误差校准方法,其特征在于:当测量X方向的旋转时,所述光栅的线条沿X方向设置,Y方向与所述第一方向同向。 

17.  如权利要求1所述的波像差测量装置的误差校准方法,其特征在于:还包括步骤六:根据所述调整补偿的结果,进行波像差测量。 

说明书

说明书波像差测量装置的误差校准方法
技术领域
本发明涉及半导体领域,尤其涉及一种波像差测量装置的误差校准方法。 
背景技术
随着光刻太阳城集团键尺寸节点的向下延伸,物镜像质对CD和套刻的影响越来越明显,所以需要对物镜波像差和畸变进行精确测量。对物镜的波像差测量通常使用双光栅横向剪切干涉原理,通过物面和像面两个相互匹配的光栅形成剪切干涉图对物镜进行检测。 
波像差测量分系统使用的像面标记板标记结构如图1所示,中间的波像差测量标记区域布满波像差测量标记;区域周围存在八个WA标记,可用于对准,标记板镀铬,存在较高的反射率,可供FLS进行测量。在常规的测量流程中,通过掩模对准和硅片对准完成物面和像面标记的对准过程。但是这样就存在一个问题,这种方法保证的是对准标记之间的对准精度,而不是波像差测量标记之间的对准精度。这就意味着波像差测量标记之间的对准精度除了受掩模对准精度影响之外还包括了标记加工制造误差、标记板应力变形和热变形导致的误差。这就导致物面和像面的标记会存在倾斜和旋转,直接影响波像差测量的精度。掩模板标记加工精度目前在几十个纳米数量级,而标记板受应力和热变形影响导致测量区域内的平整度达到几百个纳米,这些影响对于波像差测 量而言,影响较大。 
对准标记距离波像差测试标记越是远,带来的误差可能越大。目前波像差测试标记和硅片对准标记之间距离将近10mm,如图1所示,已经很难保证波像差测量标记的对准精度。 
同样使用调焦调平传感器对波像差测量标记板进行调平也存在类似问题,测量和调整的是整个标记板的倾斜和旋转,无法测量波像差测量标记的倾斜。 
而且,由于单个波像差测量标记的旋转未知,导致像面运动台或者物面运动台在扫描或者移相的过程中,可能会导致标记移相和扫描方向之间非正交,这一点也会影响波像差测量的精度。 
所以通过掩模对准、硅片对准和FLS调焦调平之后,物面和像面波像差标记的对准结果可能如图2所示,存在倾斜和旋转。在这种情况下,如果需要进一步提高波像差测量精度,就必须得到物面和像面波像差测量标记的直接对准精度,并进行调整从而保证两者之间不存在倾斜和旋转。 
发明内容
本发明要解决的技术问题是如何通过对波像差标记的使用提高对准精度,并进行调整。 
为了解决这一技术问题,本发明提供了一种波像差测量装置的误差校准方法,包括以下步骤: 
步骤一:通过掩模台的掩模板上的物面测量标记和工件台的基准板上的若 干个像面测量标记的相对运动进行波像差测量,然后通过测量的结果计算所述基准板的倾斜情况。 
步骤二:通过测量的结果计算所述基准板的旋转角度; 
步骤三:根据所述基准板的倾斜情况和旋转角度对所述基准板进行调整补偿。 
还包括以下步骤: 
步骤四:通过一个物面测量标记和一个像面测量标记的相对运动获取位相图,然后通过位相图计算掩模台的运动方向与像面测量标记的夹角或者工件台的运动方向与物面测量标记的夹角; 
步骤五:根据所述夹角对掩模台位置或工件台位置进行调整补偿。 
在所述步骤一中包括如下步骤: 
S101:将掩模板上的物面测量标记移动至物镜的视场中心点,将基准板上的像面测量标记的区域中心移动到与物面测量标记对应的名义位置。 
S102:选择基准板上的若干所述像面测量标记,将所述物面测量标记分别与每个像面测量标记发生相对运动,传感器进行图像采集和波像差测量,得到这若干个像面测量标记对应的泽尔尼克像差系数; 
S103:根据所述泽尔尼克像差系数计算若干所述像面测量标记对应的离焦位置,再通过所述离焦位置计算出所述基准板的倾斜情况Tx、Ty。 
所述像面测量标记的数量为至少4个。 
所述像面测量标记对应的离焦位置dF根据泽尔尼克像差系数Z4通过以 下公式获得: 
n=(1-NA2)32;]]>
dZ4dF=0.4×((n+5)×NA2+4×(n-1))NA4;]]>
dF=Z4×λdZ4/dF;]]>
其中,n为中间值,dF为离焦量,NA为物镜的数值孔径,λ为波长。 
所述基准板的倾斜情况Tx、Ty以及离焦量dF之间的关系符合以下的公式: 
dF=Tx·x+Ty·y+c 
其中,x、y是所述像面测量标记的名义位置,dF为离焦量,c为常数,进而根据该公式和测量结果计算得到所述基准板的倾斜情况Tx、Ty。 
在计算所述基准板的倾斜情况Tx、Ty时,选择若干所述像面测量标记中至少三个的测量结果,应用到以下的公式中: 
TxTyc=invx1y11x2y21x3y31·dF1dF2dF3]]>
其中,(x1,y1)、(x2,y2)和(x3,y3)是所述像面测量标记的名义位置,inv为求矩阵的逆,从而计算得到所述基准板的倾斜情况Tx、Ty。 
所述步骤二包括如下步骤: 
S201:根据所述波像差测量,获得像面测量标记对应的泽尔尼克像差系数,可以计算出所述若干个像面测量标记的实际位置X、Y; 
S202:根据上述实际位置计算所述基准板的旋转角度Rz。 
在所述步骤S201中,所述波像差测量标记的数量为至少4个,选择所述像面测量标记中两个测量结果,利用这两个测量结果中的Z2、Z3,应用到以下公式中,获得所述像面测量标记对应的实际位置(X1,Y1)、(X2,Y2): 
X=-Z2NA;]]>
Y=-Z3NA;]]>
其中,NA为物镜的数值孔径。 
将所述像面测量标记对应的实际位置应用到以下公式中,计算所述基准板的旋转角度Rz: 
tan(Rz)=X1-X2Y1-Y2]]>
所述步骤四包括如下步骤: 
S401:使一个所述物面测量标记与一个所述像面测量标记之间发生相对运动,传感器采集位相图,即位相随标记的运动距离变化而变化的曲线图; 
S402:根据该位相图计算位相差,再通过所述位相差计算出掩模台的运动方向与像面测量标记方向的夹角,或工件台的运动方向与物面测量标记方向的夹角。 
在所述步骤S401中,所述像面测量标记位置不变,所述物面测量标记沿第一方向做直线移动以扫描所述像面标记,选定所述像面标记第二方向上的两 个区域,所述第一方向垂直于第二方向,移动所述物面测量标记的同时,先对所述像面标记的第一个区域沿第一方向扫描若干个周期,然后所述物面标记切换到所述像面标记的第二个区域,在移动所述物面测量标记的同时沿第一方向扫描若干个周期,从而采集到两个区域的位相图。 
所述波像差测量标记为光栅。 
利用采集到的位相图计算得到位相差,计算得到所述掩模台的运动方向与像面测量标记方向的夹角,或工件台的运动方向与物面测量标记方向的夹角。 
所述掩模台的运动方向与像面测量标记方向的夹角,或工件台的运动方向与物面测量标记方向的夹角通过以下公式得到: 
tan(R)=p×Δθ2×π×d]]>
其中,p为运动光栅周期,d为运动光栅的切换距离,Δθ为位相差。 
当测量Y方向的旋转时,所述光栅的线条沿Y方向设置,X方向与所述第一方向同向。 
当测量X方向的旋转时,所述光栅的线条沿X方向设置,Y方向与所述第一方向同向。 
所述的波像差测量装置的误差校准方法还包括步骤六:根据所述调整补偿的结果,进行波像差测量。 
本发明摒弃了使用掩模对准、硅片对准和FLS来进行物面和像面波像差标记对准的方法,而是使用了波像差测量标记来实现所述基准板的倾斜情况和 旋转角度以及掩模板或基准板的运动方向与波像差测量标记方向的旋转夹角进行调整补偿。具体来说,使用波像差测量结果计算波像差标记的对准精度,并进行调整;通过测量物面和像面运动台运动方向和标记方向之间是否存在夹角,并进行调整。 
附图说明
图1是现有技术中的对准标记和波像差测量标记的分布示意图; 
图2是现有技术中波像差测量标记对准结果示意图; 
图3是本发明一实施例中波像差测量装置的结构示意图; 
图4是本发明一实施例中的流程示意图; 
图5是本发明一实施例中测试标记1、2、3、4的示意图; 
图6和图7是本发明一实施例中掩模板或基准板的运动方向与波像差测量标记方向存在旋转的位相示意图; 
图8和图9是本发明一实施例中掩模板或基准板的运动方向与波像差测量标记方向不存在旋转的位相示意图。 
具体实施方式
以下将结合图3至图9通过一个实施例对本发明提供的波像差测量装置的误差校准方法进行详细的描述,其为本发明一可选的实施例,可以认为本领域的技术人员在不改变本发明精神和内容的范围内,能够对其进行修改和润色。 
本发明用于解决波像差测量过程中物面和像面测量标记的对准误差。本发明与现有技术相比,降低了波像差测量对FLS、掩模对准、硅片对准的依赖性;提高了波像差测量标记的对准精度;提高了波像差测量的精度。 
由于波像差测量结果本身具备很高的精度,所以调整精度很高。波像差的精度可以达到几个纳米,由于可用于波像差测量的标记区域大小在厘米数量级,所以物面和像面测量标记对准倾斜和旋转的测量精度可以达到微弧度数量级。 
同样波像差测量精度达到纳米数量级,这就意味着位相测量精度可以达到pi/100,同样,对于物面或像面运动台的运动方向和测量标记方向之间的夹角,测量精度也可以达到微弧度数量级。 
综上,本发明可以达到很高的测量精度。 
请参考图3和图4,本实施例提供了一种波像差测量装置的误差校准方法,包括以下步骤: 
步骤一:通过掩模台的掩模板上的一个物面测量标记和工件台的基准板上的若干个像面测量标记的相对运动进行波像差测量,然后通过测量的结果计算所述基准板的倾斜情况。 
步骤二:通过测量的结果计算所述基准板的旋转角度。 
步骤三:根据所述基准板的倾斜情况和旋转角度对所述基准板进行调整补偿。 
进一步的,步骤四:通过一个物面测量标记和一个像面测量标记的相对运 动获取位相图,然后通过位相图计算掩模台的运动方向与像面测量标记的夹角或者工件台的运动方向与物面测量标记的夹角。 
步骤五:根据所述夹角对掩模台位置或工件台位置进行调整补偿。 
进一步的,步骤六:根据所述调整补偿的结果,进行波像差测量。 
所述步骤一通过掩模台的掩模板上的一个物面测量标记和工件台的基准板上的若干个像面测量标记的相对运动进行波像差测量,然后通过测量的结果计算所述基准板的倾斜情况,进一步包括: 
S101:将掩模板上的物面测量标记移动至物镜的视场中心点,将基准板上的像面测量标记的区域中心移动到与物面测量标记对应的名义位置。 
其中,请参考图3,波像差测量标记包括所述基准板上的像面测量标记和所述掩模板上的物面测量标记,基准板和掩模板上还另有对准标记,在图中就不做表述了。 
S102:选择基准板上的若干所述像面测量标记,将所述物面测量标记分别与每个像面测量标记发生相对运动,传感器进行图像采集和波像差测量,得到这若干个像面测量标记对应的泽尔尼克像差系数。 
本实施例中,所述像面测量标记的数量至少为4个,本实施例列举了4个,即如图5所示的测量标记1、2、3、4。 
S103:根据所述泽尔尼克像差系数计算若干所述像面测量标记对应的离焦位置。 
具体来说,本实施例中,四个所述像面测量标记对应的离焦位置dF根据 泽尔尼克像差系数Z4通过以下公式获得: 
n=(1-NA2)32;]]>
dZ4dF=0.4×((n+5)×NA2+4×(n-1))NA4;]]>
dF=Z4×λdZ4/dF;]]>
其中,n为中间值,dF为离焦量,NA为物镜的数值孔径,λ为波长。 
S104:通过所述离焦位置计算出所述基准板的倾斜情况Tx、Ty。 
需要说明的是,所述基准板的倾斜情况Tx、Ty以及离焦量dF之间的关系符合以下的公式: 
dF=Tx·x+Ty·y+c 
其中,x、y是所述像面测量标记的名义位置,dF为离焦量,c为常数。 
由于选择了若干个像面测量标记进行测量,因此在计算所述基准板的倾斜情况Tx、Ty时,选择若干所述像面测量标记中至少三个测量结果,在本实施例中,在四次测量结果中选择三个,应用到以下的公式中: 
TxTyc=invx1y11x2y21x3y31·dF1dF2dF3]]>
其中,(x1,y1)、(x2,y2)和(x3,y3)是所述像面测量标记的名义位置,inv为求矩阵的逆,从而计算得到所述基准板的倾斜情况Tx、Ty。 
所述步骤二通过测量的结果计算所述基准板的旋转角度,进一步包括: 
S201:根据所述波像差测量,获得像面测量标记对应的泽尔尼克像差系数,可以计算出所述若干个像面测量标记的实际位置x、y。 
具体来说,泽尔尼克像差系数包括Z2、Z3,在本实施例中,所述波像差测量标记的数量为至少4个,选择所述像面测量标记中两个测量结果,利用这两个测量结果中的Z2、Z3,应用到以下公式中,获得所述像面测量标记对应的实际位置(X1,Y1)、(X2,Y2): 
X=-Z2NA;]]>
Y=-Z3NA;]]>
其中,NA为物镜的数值孔径。 
S202:将所述像面测量标记对应的实际位置应用到以下公式中,计算所述基准板的旋转角度Rz: 
tan(Rz)=X1-X2Y1-Y2.]]>
所述步骤四通过一个物面测量标记和一个像面测量标记的相对运动获取位相图,然后通过位相图计算掩模台的运动方向与像面测量标记的夹角或者工件台的运动方向与物面测量标记的夹角,进一步包括: 
S401:使一个所述物面测量标记与一个所述像面测量标记之间发生相对运动,传感器采集位相图,即位相随标记的运动距离变化而变化的曲线图; 
在本实施例中,由于波像差测量标记像面测量标记大于物面测量标记,所以本实施例优选了所述像面测量标记位置不变,所述物面测量标记进行移动的 方案,具体来说,在测量时,所述像面测量标记位置不变,所述物面测量标记沿第一方向做直线移动以扫描所述像面标记,选定所述像面标记第二方向上的两个区域,所述第一方向垂直于第二方向,移动所述物面标记的同时,先对所述像面标记的第一个区域沿第一方向扫描若干个周期,然后所述物面标记切换到所述像面标记的第二个区域,在移动所述物面标记的同时沿第一方向扫描若干个周期,从而采集到两个区域的位相图。所述波像差测量标记为光栅。当然,在本发明其他可选的实施例中,也可以采用物面测量标记位置不变,像面测量标记进行移动的方案,其原理与实施方法均与本实施例相类似。 
进一步来说,在本实施例中,请参考图6至图9,测量过程中保持像面测量标记位置不变,可以沿如图所示的X方向移动物面测量标记,当测量Y方向的旋转时,所述光栅的线条沿Y方向设置,X方向与所述第一方向同向。本实施例中,在像面测量标记最上方区域沿X方向扫描若干个标记周期,然 后切换到像面测量标记最下方的区域,沿X方向扫描若干个周期,传感器在下方进行图像采集,当然物面测量标记不能超过像面测量标记的范围。位相图可以通过传感器测量得到的波前计算出也可以根据传感器测量的光强直接进行转换得到,其中,纵轴表示位相,横轴表示测量标记移动的距离。 
在本发明另一可选的实施例中,当测量X方向的旋转时,所述光栅的线条沿X方向设置,Y方向与所述第一方向同向,即沿Y方向移动物面测量标记。 
S402:根据该位相图计算位相差,再通过所述位相差计算出掩模台的运 动方向与像面测量标记方向的夹角,或工件台的运动方向与物面测量标记方向的夹角。 
具体说来,经过以上的步骤后,可以利用采集到的位相图计算得到位相差,所述掩模台的运动方向与像面测量标记方向的夹角,或工件台的运动方向与物面测量标记方向的夹角通过以下公式得到: 
tan(R)=p×Δθ2×π×d]]>
其中,p为运动光栅的周期,d为运动光栅的切换距离,Δθ为位相差。 
综上所述,本发明摒弃了使用掩模对准、硅片对准和FLS来进行物面和像面波像差标记对准的方法,而是使用了波像差测量标记来实现所述基准板的倾斜情况和旋转角度以及掩模台或工件台的运动方向与波像差测量标记方向的旋转夹角进行调整补偿。具体来说,使用波像差测量结果计算波像差标记的对准精度,并进行调整;通过测量物面和像面运动台运动方向和标记方向之间是否存在夹角,并进行调整。 

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波像差 测量 装置 误差 校准 方法
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